Aufsatz(elektronisch)#1Januar 2024
Effects of Y and Ho doping on microstructure evolution during oxidation of extraordinary stable Hf-B-Si-Y/Ho-C-N films up to 1500 °C
In: Materials and design, Band 237, S. 112589
ISSN: 1873-4197
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In: Materials and design, Band 237, S. 112589
ISSN: 1873-4197